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半导体制造技术题库解答(光电所专用)
1. 分别简述RVD 和GILD 的原理,它们的优缺点及应用方向.(第二章ppt15-18) 答:RVD(快速气相掺杂)是一种掺杂剂从气相直接向硅中扩散.并能形成超浅结的快速掺杂工艺.它是利用快速热处理过程将处在掺杂气氛中的硅片快速均匀地加热至所需要的温度,同时掺杂剂发生反应产生杂质原子,杂质原子直 ...
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半导体工艺及芯片制造技术问题答案(全)
常用术语翻译 active region 有源区 2.active component有源器件 3.Anneal退火 4.atmospheric pressure CVD (APCVD) 常压化学气相淀积 5.BEOL(生产线)后端工序 6.BiCMOS双极CMOS 7.bonding wire 焊 ...
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热导率测量(归纳)
如今测量导热系数方法与仪器有许多种.使用Fourier方程所描述的稳态条件的仪器主要适用于测量中低导热系数材料.使用动态(瞬时)方法的仪器,如热线法或激光散射法,用于测量中高导热系数材料. 一. 稳态方法 1. 热流法 如图1所示,将厚度一定的方形样品(例如长宽各30cm,厚10cm)插入于两个平板 ...
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集成电路设计工艺流程
集成电路设计工艺流程 晶体的生长 晶体切片成 wafer 晶圆制作 功能设计à模块设计à电路设计à版图设计à制作光罩 工艺流程 1) 表面清洗 晶圆表面附着一层大约 2um 的 Al2O3 和甘油混合液保护之 , 在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗. 2) 初次氧化 有热氧化法生成 SiO2 缓冲层 ...
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波动光学课件
第九章 波动光学 内容:1.光波及其相干条件 2.杨氏双缝干涉 3.薄膜干涉 4.迈克尔孙干涉仪 5.单缝衍射 6.光栅衍射 7.X光衍射 8.自然光与偏振光 9.起偏与检偏 10.反射光与折射光的偏振 重点与难点: 1.杨氏双缝干涉2.等倾干涉: 3.等厚干涉: 4.迈克尔孙干涉仪的应用 5.单缝 ...
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晶体硅太阳电池减反射膜的研究
晶体硅太阳电池减反射膜的研究 太阳能光伏技术是将太阳能转化为电力的技术,其核心是半导体物质的光电效应.最常用的半导体材料是硅.在太阳电池表面形成一层减反射薄膜是提高太阳电池的光电转换效率比较可行且降低成本的方法.应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积) 系统,采用SiH4和NH3气源以制备氮化硅薄 ...
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太阳能电池片生产工艺简介
培训资料 前道 一 制绒工艺 制绒目的 1. 消除表面硅片有机物和金属杂质. 2. 去处硅片表面机械损伤层. 3. 在硅片表面形成表面组织,增加太阳光的吸收减少反射. 工艺流程 来料,开盒,检查,装片,称重,配液加液,制绒,甩干,制绒后称重,绒面检查,流出. 单晶制绒 基本原理 1#超声 去除有机物 ...
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[薄膜材料与薄膜技术]复习题
<薄膜材料与薄膜技术>复习题 1. 薄膜材料与体材料的联系与区别. 1. 薄膜所用原料少,容易大面积化,而且可以曲面加工.例:金箔.饰品.太 阳能电池,GaN,SiC,Diamond 2. 厚度小.比表面积大,能产生许多新效应.如: 极化效应.表面和界面效 应.耦合效应等. 3. 可以获 ...
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减反射技术和减反射原理
减反射原理和减反射技术 3.1 硅材料的光学特性 晶体硅材料的光学特性,是决定晶体硅太阳电池极限效率的关键因素,也是太阳电池制造工艺设计的依据. 3.1.1 光在硅片上的反射.折射和透射 照射到硅片表面的光遵守光的反射.折射定律.如图3.1所示,表面平整的硅片放置在空气中, '表示反射光强度,I 1 ...